MgF2 Substrat
Təsvir
MgF2 110nm-dən 7.5μm-ə qədər dalğa uzunluğu üçün obyektiv, prizma və pəncərə kimi istifadə olunur.193nm-də yaxşı ötürülməsi səbəbindən ArF Excimer Laser üçün pəncərə kimi ən uyğun materialdır.Ultrabənövşəyi bölgədə optik polarizasiya kimi də təsirlidir.
Xüsusiyyətlər
| Sıxlıq（g/sm3) | 3.18 |
| Ərimə nöqtəsi (℃) | 1255 |
| İstilikkeçirmə | 300K-da 0,3 Wm-1K-1 |
| Termal genişlənmə | 13,7 x 10-6 /℃ paralel c oxu 8,9 x 10-6 /℃ perpendikulyar c oxu |
| Knoop Sərtliyi | 415, 100 q girinti ilə (kq/mm2) |
| Xüsusi İstilik Tutumu | 1003 J/(kq.k) |
| Dielektrik sabiti | 1MHz paralel c oxunda 1.87 1 MHz perpendikulyar c oxunda 1,45 |
| Gənc Modulu (E) | 138,5 GPa |
| Kəsmə Modulu (G) | 54,66 GPa |
| Toplu Modulu (K) | 101,32 GPa |
| Elastik əmsalı | C11=164;C12=53;C44=33,7 C13=63;C66=96 |
| Görünən Elastik Limit | 49,6 MPa (7200 psi) |
| Poisson nisbəti | 0.276 |
MgF2 Substrat Tərifi
MgF2 substratı maqnezium flüorid (MgF2) kristal materialından hazırlanmış substrata aiddir.MgF2 maqnezium (Mg) və flüor (F) elementlərindən ibarət qeyri-üzvi birləşmədir.
MgF2 substratları, onları müxtəlif tətbiqlərdə, xüsusən optika və nazik təbəqənin çökməsi sahələrində populyar edən bir sıra diqqətəlayiq xüsusiyyətlərə malikdir:
1. Yüksək şəffaflıq: MgF2 elektromaqnit spektrinin ultrabənövşəyi (UV), görünən və infraqırmızı (İQ) bölgələrində əla şəffaflığa malikdir.Təxminən 115 nm-də ultrabənövşəyidən təxminən 7500 nm-də infraqırmızıya qədər geniş bir ötürmə diapazonuna malikdir.
2. Aşağı refraksiya indeksi: MgF2 nisbətən aşağı refraksiya indeksinə malikdir, bu da onu AR örtükləri və optika üçün ideal material edir, çünki o, arzuolunmaz əksetmələri minimuma endirir və işığın ötürülməsini yaxşılaşdırır.
3. Aşağı udma: MgF2 ultrabənövşəyi və görünən spektral bölgələrdə aşağı udma nümayiş etdirir.Bu xüsusiyyət onu ultrabənövşəyi və ya görünən şüalar üçün linzalar, prizmalar və pəncərələr kimi yüksək optik aydınlıq tələb edən tətbiqlərdə faydalı edir.
4. Kimyəvi sabitlik: MgF2 kimyəvi cəhətdən sabitdir, geniş kimyəvi maddələrə davamlıdır və geniş ətraf mühit şəraiti altında optik və fiziki xassələrini saxlayır.
5. İstilik sabitliyi: MgF2 yüksək ərimə nöqtəsinə malikdir və əhəmiyyətli deqradasiya olmadan yüksək iş temperaturuna davam edə bilər.
MgF2 substratları adətən optik örtüklərdə, nazik filmin çökmə proseslərində və müxtəlif cihaz və sistemlərdə optik pəncərələr və ya linzalarda istifadə olunur.Onlar həmçinin yarımkeçirici materiallar və ya metal örtüklər kimi digər nazik təbəqələrin böyüməsi üçün tampon təbəqələri və ya şablonları kimi xidmət edə bilər.
Bu substratlar adətən buxar çökdürmə və ya fiziki buxar nəqli üsulları kimi üsullardan istifadə etməklə istehsal olunur, burada MgF2 materialı uyğun bir substrat materialı üzərində yerləşdirilir və ya tək kristal kimi yetişdirilir.Tətbiq tələblərindən asılı olaraq, substratlar vafli, boşqablar və ya xüsusi formalar şəklində ola bilər.
